Sputtering Target
스퍼터링 타겟은 멀티 아크 이온 또는 마그네트론 스퍼터링 PVD 진공 코팅 산업에서 장식 PVD 코팅 또는 기능성 코팅에 널리 사용되며, 고객의 요구 사항에 따라 다양한 순도를 제공 할 수 있습니다.
1175개의 결과 중 1–12 표시
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Silicon Sputtering Target 99.999% Ø 50.8 mm x 3.2 mm
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Tin Sputtering Target 99.999% Ø 25.4 mm x 3.2 mm
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Tin Sputtering Target 99.9% Ø 101.6 mm x 3.2 mm
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Bismuth Sputtering Target 99.9% Ø 25.4 mm x 6.3 mm
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Magnesium Sputtering Target 99.8% Ø 25. mmD x 3. mmL
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Yttrium Sputtering Target 99.9%Y / TREM Ø 50.8 mm x 3.2 mm
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Titanium Sputtering Target 99.6% Ø 76.2 mm x 3.2 mm
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Zirconium Sputtering Target 99.95% (Zr + Hf) Ø 25.4 mm x 6.3 mm
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Hafnium Sputtering Target 99.9% (Zr. max 2%) Ø 76.2 mm x 6.3 mm
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Niobium Sputtering Target 99.9% Ø 25.4 mm x 6.3 mm
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Chromium Sputtering Target 99.99% Ø 25.4 mm x 3.2 mm,
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Chromium Sputtering Target 99.99% Ø 76.2 mm x 6.3 mm,