Sputtering Target
스퍼터링 타겟은 멀티 아크 이온 또는 마그네트론 스퍼터링 PVD 진공 코팅 산업에서 장식 PVD 코팅 또는 기능성 코팅에 널리 사용되며, 고객의 요구 사항에 따라 다양한 순도를 제공 할 수 있습니다.
1–12/1175개 결과 표시
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Alumina Sputtering Target Purity : 99.99%, Thickness : 2.0 mm |
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Alumina Sputtering Target Purity : 99.5%, Thickness : 3.15 mm |
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Alumina Sputtering Target Purity : 99.99%, Thickness : 3.15 mm |
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Alumina Sputtering Target Purity : 99.5%, Thickness : 5.0 mm |
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Alumina Sputtering Target Purity : 99.5%, Thickness : 6.35 mm |
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Alumina Sputtering Target Purity : 99.99%, Thickness : 6.35 mm |
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Aluminium / Silicon (Al90 / Si10) Sputtering Target Thickness : 5mm |
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Aluminium / Silicon (Al99 / Si1) Sputtering Target Thickness : 3.0mm, High Purity : 99.998% |
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Aluminium / Silicon (Al99 / Si1) Sputtering Target Thickness : 6.0mm, Purity : 99.998% |
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Aluminium Sputtering Target 99.9% Ø 25.4 mm x 3.2 mm |
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Aluminium Sputtering Target 99.9% Ø 25.4 mm x 6.3 mm |
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Aluminium Sputtering Target 99.9% Ø 50.8 mm x 3.2 mm |
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