Sputtering Target
스퍼터링 타겟은 멀티 아크 이온 또는 마그네트론 스퍼터링 PVD 진공 코팅 산업에서 장식 PVD 코팅 또는 기능성 코팅에 널리 사용되며, 고객의 요구 사항에 따라 다양한 순도를 제공 할 수 있습니다.
1175개의 결과 중 1–12 표시
-
Magnesium Sputtering Target 99.8% Ø 76. mmD x 6. mmL
-
Titanium Sputtering Target 99.6% Ø 25.4 mm x 6.3 mm
-
Titanium Sputtering Target 99.6% Ø 127 mm x 6.3 mm
-
Zirconium Sputtering Target 99.95% (Zr + Hf) Ø 152.4 mm x 6.3 mm
-
Vanadium Sputtering Target 99.9+% Ø 101.6 mm x 6.3 mm
-
Tantalum Sputtering Target 99.9% Ø 50.8 mm x 6.3 m x
-
Chromium Sputtering Target 99.95% Ø 57 mm x 0.5 mm,
-
Chromium Sputtering Target 99.99% Ø 152.4 mm x 3.2 mm,
-
Tungsten Sputtering Target 99.95% Ø 25.4 mm x 6.3 mm
-
Iron Sputtering Target 99.9% Ø 25.4 mm x 6.3 mm
-
Iron Sputtering Target 99.99+% Ø 101.6 mm x 1 mm
-
Iron Sputtering Target 99.99+% Ø 152.4 mm x 6.3 mm