스퍼터링 타겟은 멀티 아크 이온 또는 마그네트론 스퍼터링 PVD 진공 코팅 산업에서 장식 PVD 코팅 또는 기능성 코팅에 널리 사용되며, 고객의 요구 사항에 따라 다양한 순도를 제공 할 수 있습니다.

1–12/1175개 결과 표시


Alumina Sputtering Target
Purity : 99.99%, Thickness : 2.0 mm
Alumina Sputtering Target
Purity : 99.5%, Thickness : 3.15 mm
Alumina Sputtering Target
Purity : 99.99%, Thickness : 3.15 mm
Alumina Sputtering Target
Purity : 99.5%, Thickness : 5.0 mm
Alumina Sputtering Target
Purity : 99.5%, Thickness : 6.35 mm
Alumina Sputtering Target
Purity : 99.99%, Thickness : 6.35 mm
Aluminium / Silicon (Al99 / Si1) Sputtering Target
Thickness : 3.0mm, High Purity : 99.998%
Aluminium / Silicon (Al99 / Si1) Sputtering Target
Thickness : 6.0mm, Purity : 99.998%